產(chǎn)品介紹
電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15us/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導(dǎo)率在10us/cm以下純水來清洗，電鍍行業(yè)水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用廢水零排放系統(tǒng)。通常系統(tǒng)由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，edi裝置等組合而成，以滿足電鍍行業(yè)對水質(zhì)的要求。
電鍍涂裝用超純水設(shè)備也不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性，技術(shù)科學(xué)環(huán)保，自動化程度高，出水質(zhì)量高且可調(diào)整。
ED超純水設(shè)備應(yīng)用
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。
2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水制備。
3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
工藝設(shè)計
電鍍涂裝行業(yè)EDI超純水模塊（電除鹽）的工藝流程:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透主機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
設(shè)備特點
電鍍涂裝行業(yè)EDI超純水模塊（電除鹽）的優(yōu)點
1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡單了。
2、可連續(xù)生產(chǎn)：電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的，免除了使用混床過程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。
3、不需要處理廢酸堿：沒有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。
4、安裝條件簡單：電除鹽在安裝時，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿足，對于較低的廠房，可以通過對電除鹽模塊的水平配置解決。
5、運(yùn)行成本低：電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價格上有競爭性。
6、水質(zhì)穩(wěn)定：電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握。不會有普通混床那樣的水質(zhì)變化。。總體降低了總投資費(fèi)用
技術(shù)參數(shù)
1、給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
3、溫度：5-35℃
4、進(jìn)水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。
5、出水電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m（常溫下20°C
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